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135-3805-8187

清洗/活化/改性

去除材料表面物、顆粒、臟污物、氧化物、有機物,增加潔凈度、提升親水性、增強粘貼力

除膠

去除光刻膠、電路板去膠,分解由分子構成的殘留污染物,提升材料表面的親水性、附著力、粘接力

刻蝕

ICP硅刻蝕、CCP介質刻蝕、金屬刻蝕,實現各向異性刻蝕,保證細小圖形轉移后的保真性

涂覆

使用低壓等離子體,可以改良具有不同涂層的工件。為此,會將氣態和液態原材料輸送到真空腔室中。

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